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位于江苏无锡市的公司. 江阴金泰克生物技术有限公司是由美国哈佛博士领导海归团队所创建的高科技公司，引进国外先进技术，结合国内加工生产，并在全球销售高性价比的钛合金种植牙系统、种植器械盒、种植机、全瓷牙冠，以及纳米 生物活性 骨粉和生物 ...
半导体器件制造工艺的步骤之一. 本词条由 “科普中国”科学百科词条编写与应用工作项目 审核 。 光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用 光蚀刻 技术 ，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的 原理 ，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片上。 中文名. 光罩. 外文名. Reticle, Mask. 别 名. 光掩模版、掩膜版. 特 点. 铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆. 相关技术. 光蚀刻技术. 关联词. 冲洗 照片. 目录. 1 简介. 2 结构. 3 光刻. 4 集成电路. 简介. 播报. 编辑.
面子是需要的，纯真的面子美好而神往。好比人的着装和打扮，适度修饰，精于点缀，长精神、提志气，就能画龙点睛，使人受益、给人享受。像“战斗英雄”、“劳动模范”、“积极分子”等等的面子，就是受人尊重、促人创造的。问题是对面子的刻意追逐和过度的炒作，掺假做伪，就使人厌恶 ...
中文名. 掩模误差增强因子. 外文名. Mask Error Enhancement Factor. 英文缩写. MEEF. 掩模误差增强因子（Mask Error Enhancement Factor，MEEF）被定义为晶圆上光刻胶线宽（CDwafer）随掩模上图形线宽（CDmask）变化的斜率，即. 式中，掩模图形的线宽（CDmask）已经按光刻机曝光图形的缩小倍数折算成了晶圆上的尺寸，对于大多数光刻机是除以4，CDwafer随CDmask的变化如图1所示。 当图形尺寸远大于光刻机的瑞利分辨率（Rayleigh resolution limit，λ/NA）时，MEEF较小，基本上为1。 也就是说，掩模上图形线宽的误差会1：1地反映到光刻胶图形上，ΔCDwafer=ΔCDmask/4。
1 内容简介. 2 目录. 内容简介. 播报. 编辑. 本标准与JB/T7888.2—1999相比，主要变化如下： ——对型号表示方法进行了修改； ——将JTK—一0.8和2JTK—O.8型矿用提升绞车中制动形式为块式闸的参数和技术要求从本标准中删除； ——增添了JTK一1×0.8、JTK一1.2×1.2、2JTK--1.2X1、JTK.4×1.2、2JTK—1.4×1、JTK一1.6X1.5及2JTK—1.6×1.2型绞车的参数和技术要求； ——增加主轴的无损检测要求； ——对部分技术要求的参数进行了调整； ——标牌的内容增加了“产品执行标准编号”； ——增加了安全防护方面的要求。 目录. 播报. 编辑. 前言.
极氪（ZEEKR）是浙江吉利控股集团有限公司旗下高端智能电动品牌，2021年3月，浙江极氪智能科技有限公司成立。极氪是一家以智能化、数字化、数据驱动的智能出行科技公司，秉承用户型企业理念，聚焦智能电动出行前瞻技术的研发，构建科技生态圈与用户生态圈，以“共创极致体验的出行生活 ...
方时赫（방시혁），艺名"hitman" bang，1972年8月9日出生于韩国首尔，韩国作曲家、音乐制作人，Big Hit Entertainment（现HYBE）创始人。2005年，方时赫离开JYP Entertainment，成立自己的公司Big Hit Entertainment [7]；同年，参与创作林正姬（ 林贞熙 ）首张专辑《Music Is My Life》收录的《눈물이 안났어》《시계태엽 ...
