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简介. 播报. 编辑. 业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质： 石英玻璃 、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。 [1] 结构. 播报. 编辑. 实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。 倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。
中文名. 掩模规则检查. 外文名. mask rule check. 设计图形经过 OPC 处理后（post-OPC），在被发送到掩模生产厂之前，必须要做所谓的掩模规则检查（mask rule check，MRC）。 MRC检查“post-OPC”数据，确认其中所有图形适合 掩模版 制备工艺。 MRC中的规则是由掩模版厂提供的，OPC工程师将这些规则输入到MRC软件中。 MRC规则主要包括如下内容： （1）对图形的最小线宽（minWidth），线间距（minSpace），做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）的线宽和间距限定最小值。 （2）对图形拐角之间间距（corner-to-corner）的最小值做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）与主图形之间的距离做出限定。
自此起，百老滙认为科技发展日新月异，电子及电器产品势必成为大家生活上的必需品，因此便积极拓展其业务范畴，由摄影器材专门店发展至多元化的数码电子及电器零售业务。. 随著时代变迁，层出不穷的电子及电器产品不断影响著我们的生活模式，顾客的 ...
制作方法. 溅镀法. 目录. 1 简介. 2 种类. 透明基板. 遮光膜. 3 制作方法. 4 工艺过程. 简介. 播报. 编辑. 光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。 其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
二元掩模. 二元掩模（Binary Intensity Mask，BIM），也称为双极型掩模，是指由透光与不透光两种部分组成的光掩模版 [1]。. 二元掩模版是使用最多的一种掩模版，被广泛用于365nm（I线）至193nm的浸没式光刻。. 二元掩模是相对于移相掩模而言的。. 最常用的二元掩模 ...
中文名. 光源掩模协同优化. 外文名. Source Mask Optimization. 英文缩写. SMO. 光源掩模协同优化 (Source Mask Optimization, SMO)仿真计算的基本原理与基于模型的邻近效应修正类似。 对掩模图形的边缘做移动，计算其与晶圆上目标图形的偏差，即边缘放置误差。 在优化时模型中故意引入曝光剂量、聚焦度、掩模版上图形尺寸的扰动，计算这些扰动导致的晶圆上像的边缘放置误差。 评价函数和优化都是基于边缘放置误差实现的。 光源掩模协同优化计算出的结果，不仅包含一个像素化的光源，而且包括对输入设计做的邻近效应修正。 由于光照参数和掩模上的图形可以同时变化，优化计算的结果可能不是唯一的 [1]。 光源掩模协同优化的计算结果.
播报. 编辑. 上海麦克林生化科技股份有限公司(2张) 麦克林试剂是一家研发用试剂产品的制造供应商。. 公司位于上海浦东张江，设有研发中心。. 公司试剂产品包括通用试剂、药物合成试剂、手性化合物、催化剂及配体、 分析试剂 、生物试剂等。. 公司生产线 ...
