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蝕 刻技術可以分為『濕蝕刻』 (wet etching)及『乾蝕刻』 (dry etching)兩類。. 在濕蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，而乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻 (plasma etching)，電漿蝕刻中的蝕刻作用，可能是電漿中離子撞擊晶片表面的物理作用，或者可能 ...
Bewise Inc. www.tool-tool.com Reference source from the internet. 鍍層品質不良的發生多半為電鍍條件,電鍍設備或電鍍藥水的異常,及人為疏忽所致.通常在現場發生不良時比較容易找出原因克服,但電鍍後經過一段時間才發生不良就比較棘手.然而日後與環境中的酸氣 ...
