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定义. 播报. 编辑. 无储气囊、无活瓣的开放式面罩。 面罩两侧有气孔，以排出呼出气。 为消除面罩无效腔所产生的重复呼吸，氧流量必须大于4L/min。 吸氧浓度不稳定，不适用于伴有二氧化碳潴留的低氧血症患者。 出处. 播报. 编辑. 《呼吸病学名词》 [1] 简单吸氧面罩（simple oxygen mask）是2018年公布的呼吸病学名词。
1 定义. 2 出处. 定义. 播报. 编辑. 一种具有单向活瓣、可防止呼出气进入储气囊的吸氧面罩。 临床上常用呼吸机的单向通气活瓣或单向阀防止呼出气进入面罩，保证较高的吸氧浓度，甚至达100%，但阻力稍大。 出处. 播报. 编辑. 《 呼吸病学名词 》第一版。 [1] 词条图册 更多图册. 概述图册(1张) 参考资料. 1 非重复呼吸面罩 ．术语在线 [引用日期2020-11-19] 非重复呼吸面罩 的概述图 （1张） 词条统计. 浏览次数： 编辑次数： 4 次 历史版本. 最近更新： XinYuePoetry. （ 2022-04-10 ） 出错了，请稍后重试哦～
- 概览
- 概述
- 联系与区别
- MPW的重要意义
集成电路的流片方式
Full Mask和MPW都是集成电路的一种流片（将设计结果交出去进行生产制造）方式。Full Mask是“全掩膜”的意思，即制造流程中的全部掩膜都为某个设计服务；而MPW 全称为Multi Project Wafer，直译为多项目晶圆，即多个项目共享某个晶圆，也即同一次制造流程可以承担多个IC设计的制造任务。
Full Mask和MPW都是集成电路的一种流片（将设计结果交出去进行生产制造）方式。Full Mask是“全掩膜”的意思，即制造流程中的全部掩膜都为某个设计服务；而MPW 全称为Multi Project Wafer，直译为多项目晶圆，即多个项目共享某个晶圆，也即同一次制造流程可以承担多个IC设计的制造任务。
在IC设计和生产流程中，Fabless设计者一般会将集成电路设计的最终结果以GDSII格式记录的电路版图数据交给Foundry，这个动作叫做Tape Out，俗称流片（投片）。代工厂根据集成电路版图对半导体晶圆进行加工，加工的过程非常复杂，包括通过氧化、化学刻蚀、离子注入掺杂、金属淀积等方法制造出晶体管和互连线，除此之外，可以简单地理解为整个过程就是把版图（包括形状、尺寸、层次）复制到一块半导体薄片中，其原理类似于胶片照相机的成像和冲洗过程，其中用到大量的各种形状的遮光罩，这些光罩决定了在半导体平面上各个层次的图形形状，在集成电路制造中被称为Mask，俗称“光罩”或“掩膜”。
单次生产某个芯片的成本可以简单地以所使用到的Mask的数量来表征，用到的Mask越多说明芯片规模越大、越复杂，成本也就越高。相应地，Full Mask就是指整个晶圆制造过程中的全部Mask都是为某个芯片所用，显然这次投片的成本是很高的。只有在设计完全有把握成功并且准备大批量生产、商用的时候，才会采用Full Mask方式，因为批量生产可以降低成本。
MPW为Multi Project Wafer的缩写，直译为多项目晶圆；其主要思想是将多个使用相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片，制造完成后，每个设计可以得到数十片芯片样品，这一数量对于原型（Prototype）设计阶段的实验、测试已经足够。而该次制造费用就由所有参加MPW的项目按照芯片面积分摊，成本仅为单独进行原型制造成本的5%-10%，极大地降低了产品开发风险。MPW有一定的流程，通常由Foundry或者第三方服务机构来进行组织，各种工艺在某一年之中的MPW时间点是预先设定好的，因此对参与者来说，在设计和开发方面有一定的进度压力。但是相比之下，MPW带来的好处是显而易见的，采用多项目晶圆降低了集成电路的生产成本，为设计人员提供了实践机会，并促进了集成电路设计成果转化，对IC设计人...
梅耶·马斯克是一名加拿大模特，她已经在模特行业工作超过五十年 [4] 。 2022年5月18日，全球首富埃隆·马斯克的妈妈梅耶·马斯克本周再次成为焦点，成为了登上《 体育画报 》泳装封面的年龄最大的女性。 [6] 中文名. 梅耶·马斯克. 外文名. Maye Musk [5] 国 籍. 加拿大 [5] 性 别. 女. 目录. 1 人物经历. 2 人物活动. 3 个人生活. 4 出版图书. 5 杂志写真. 人物经历. 播报. 编辑. 她15岁首次登台，22岁结婚，31岁成为破产的单身母亲，随后辗转于3个国家的多个城市开展自己的事业，独立培养出3个出色的子女，同时获得了两个硕士学位。 60多岁的她重返模特舞台，在头发变白的时候走红，69岁时，她的形象在美国时代广场独占4个广告牌。
相移掩模（Phase Shift Mask, PSM）是同时利用 光线 的强度和相位来成像，得到更高分辨率的一种 分辨率 增强技术 [1]。. 相移掩模是一项通过改变光束相位来提高 光刻分辨率 ，其基本原理是通过改变 掩模 结构，使得透过相邻透光区域的光波产生180度的相位差 ...
一次性使用医用口罩（Single-use medical face mask）适用于覆盖使用者的口、鼻及下颌，用于普通医疗环境中佩戴、阻隔口腔和鼻腔呼出或喷出污染物的一次性使用口罩。
二元掩模（Binary Intensity Mask，BIM），也称为双极型掩模，是指由透光与不透光两种部分组成的光掩模版。
