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2022年9月19日 · 基于凸透镜基本原理，如果想使其焦距变短，满足近眼成像模组体积缩小的需求，主要有两种路径：1）增加透镜厚度：通过增加透镜中央与边缘厚度差，增强透镜对光线的折射能力；2）多组透镜叠加：缩短整体透镜模组焦距。 但是，无论采用哪种方式，短焦距与轻薄化的设计诉求在传统透镜上必然存在严重冲突，这也限制了传统透镜在 VR 头显上的进一步应用深化。 非球面透镜可有效解决球差问题，在早期 vr 头显应用较多. 菲涅尔透镜本质是扁平版凸透镜，因体积较小且工艺成熟被目前市场上多数 VR 头显采用。 光传播的方向在介质中不会改变（除非是散射光），而是在介质的表面偏离。 因此，透镜中心的大部分材料只会增加系统内的重量和吸收量。
2006年3月20日 · 反向工程 (Reverse Engineering)可谓是IC产业颇具争议性的一个问题。. 但争议归争议，从海外的ChipWorks和Semiconductor Insights (SI)，到中国国内的上海圣景微电子和北京芯愿景，反向工程公司的名声及其产品与服务，在业界的影响力却是有增无减。. 以ChipWorks为例 ...
2021年8月24日 · 通过这么多期的光刻小讲堂，我们从光源开始，沿着光路逐个介绍了 照明模组、投影物镜模组以及上一期的浸润式光刻， 想必这一系列一定让同学们大呼惊叹。 而在光刻机内，还有另一个“大神”，它聚集了光刻机中最重要的运动部件，是系统的机械“心脏”，它就是我们今天要介绍的—— 晶圆平台模组（Wafer stage module） 。 今天，光刻小讲堂就带你了解晶圆平台模组如何发挥它的 快、稳、准 ，以不断地向更高的产能、更准的套刻精度迈进。 在这样一个争分夺秒的行业里，时间就是金钱。 ASML也一直在追求光刻机极致的速度，目前最先进的DUV光刻机，每小时可以完成300片晶圆的光刻生产。 这是一个什么概念呢？ 我们来换算一下，完成一整片晶圆只需要12秒，这还得扣除掉晶圆交换和定位的时间，实际光刻时间要更短。
2023年5月13日 · 据介绍，中科融合基于自研MEMS微振镜投射芯片的激光投射模组，采用高精密驱动控制实现低温漂和高角度重复精度，支持可见光、红外波段等激光光源，为客户提供高精度、高对比度、抗干扰能力强的激光投射模组。 公司目标市场包含两大类：三维视觉成和微型显示和投影。 这两大类市场领域赋能了下游诸多应用场景，如说3D视觉对应智能工业中的3D视觉抓取、物流分拣、缺陷检测，智能AGV中的自动避障、抬头显示等；微型显示与投影则对应家庭娱乐中的微型激光投影、家居服务机器人，AR/VR中的元宇宙入口、3D数字化社交、数字医疗等应用领域。 刘欣表示，目前3D视觉技术还不能很好地解决应用市场“精度低&体验差 or 精度高&价格昂贵”的痛点。
2021年9月18日 · DFE架构介绍. 关键功能模块. Part1 DFE基本概念. 判决反馈均衡器（Decision Feedback Equalier, DFE)，是目前SerDes中常见于于RX部分的一种均衡方式，能够有效提升RX的接收性能。 先前我们在讲 均衡之FFE 中提到了信道的时域响应存在拖尾现象，拖尾会影响到下一个码元，也就是常说的码间干扰 (ISI)，当然信道的非理想还包含串扰，反射等现象。 对于比较高的信道插损，线性均衡CTLE的效果存在上限，需要进一步的均衡机制。 图1. 如图1，时域上，一种最直接原始的想法是，如果能够根据当前码元的判决结果，将该码元的后续影响依次全部消减，就可以把当前码元ISI的影响降到最低，甚至消除。 这也是DFE作用最直观的描述。
2021年5月10日 · 释义：Mura 本来是一个日本字，是指显示器亮度不均匀, 后扩展至面板上任何人眼可识别的颜色差异。 Mura 会通过点，线，面等规则或者不规则的形式体现出来。 众所周知，OLED屏的Mura是一个最让人头疼的问题，在技术开发过程中，工程师们花了大量的时间和精力想要将这些Mura去除。 而实际生产中，造成Mura的原因多种多样，几乎每一道工艺制程都对Mura的形成有贡献，但不同工序对最终显示mura形态和严重程度的影响又有差别。 2. Mura的成因. 成膜不均. 对于成膜设备，比如PECVD沉积的绝缘膜（SiO2，SiNx，a-Si等），其面内膜厚分布受到真空腔室的物理制约，气体流场、上下电极的电场及下电极的热场分布都不可能做到在玻璃表面均匀分布，因此会造成薄膜厚度的面内不均。
2022年1月14日 · 1 光耦合. 光耦合就是实现光路对准，光路对准技术按照需要光源在线的主动耦合（active alignment）和不许要光源在线的被动耦合（Passive alignment）。. 被动耦合主要依靠标记位置，图像识别技术，机械配件的精密设计匹配来实现耦合后光路的准确传输 ...
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