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简介. 播报. 编辑. 业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质： 石英玻璃 、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。 [1] 结构. 播报. 编辑. 实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。 倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。
1 简介. 2 种类. 透明基板. 遮光膜. 3 制作方法. 4 工艺过程. 简介. 播报. 编辑. 光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。 其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
二元掩模. 外文名. Binary Intensity Mask. 英文缩写. BIM. 二元掩模版是使用最多的一种掩模版，被广泛用于365nm（I线）至193nm的浸没式光刻。. 二元掩模是相对于移相掩模而言的。. 最常用的二元掩模遮光材料是Cr，因为其易于沉积在 石英玻璃 上，粘合性好，物理化学 ...
外文名. mask rule check. 设计图形经过 OPC 处理后（post-OPC），在被发送到掩模生产厂之前，必须要做所谓的掩模规则检查（mask rule check，MRC）。 MRC检查“post-OPC”数据，确认其中所有图形适合 掩模版 制备工艺。 MRC中的规则是由掩模版厂提供的，OPC工程师将这些规则输入到MRC软件中。 MRC规则主要包括如下内容： （1）对图形的最小线宽（minWidth），线间距（minSpace），做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）的线宽和间距限定最小值。 （2）对图形拐角之间间距（corner-to-corner）的最小值做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）与主图形之间的距离做出限定。
2017年3月，何恺明和同事公布Mask R-CNN，提出了一个概念上简单、灵活和通用的用于目标实例分割（objectinstance segmentation ）框架，能够有效地检测图像中的目标，同时还能为每个实例生成一个高质量的分割掩码。 [1] 何恺明（右）与导师汤晓鸥教授 ...
目 的. 控制图像处理的区域或处理过程. 应 用. 提取感兴趣区、屏蔽作用等. 词目： 图像掩模 。 英文： image masking,image mask 。 释文： 用选定的图像、图形或物体,对待处理的图像 (全部或局部)进行遮挡,来控制图像处理的区域或处理过程。 用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。 光学图像处理中,掩模可以是胶片、滤光片等。 数字图像处理中,掩模为二维矩阵数组,有时也用多值图像。 数字图像处理中,图像掩模主要用于：①提取感兴趣区,用预先制作的感兴趣区掩模与待处理图像相乘,得到感兴趣区图像,感兴趣区内图像值保持不变,而区外图像值都为0。 ②屏蔽作用,用掩模对图像上某些区域作屏蔽,使其不参加处理或不参加处理参数的计算,或仅对屏蔽区作处理或统计。
掩膜（MASK）：全称 单片机 掩膜，是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。 优点是：程序可靠、成本低。 缺点：批量要求大，每次 修改程序 就需要重新做光刻板，不同程序不能同时生产，供货 周期长 。 中文名. 掩膜. 外文名. MASK. 缺 点. 批量要求大. 图像掩模. 选定的图像. 优 点. 程序可靠、成本低。 目录. 1 单片机掩膜. 2 图像掩膜. 单片机掩膜. 播报. 编辑. 在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用 光刻技术 ，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“ 掩模 ”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个 不透明 的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。 图像掩膜. 播报. 编辑.
