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2024年4月，巴西下令要求X封禁部分热门账号，以打击仇恨言论和虚假信息。4月6日，X公司首次发布了有关封禁账号命令的帖子，X公司称，因法院判决而被迫在巴西屏蔽某些受欢迎的账号，并被禁止透露该命令的细节。
10月17日，X平台表示，开始在新西兰和菲律宾测试“Not A Bot”项目，这是一种针对新用户的新订阅方式，这项测试旨在减少垃圾邮件及机器人活动等 [5] 10月25日，社交应用X正式上线了音视频通话功能。
下面主要介绍IP地址（IP Address）的概念及其 子网掩码 （Subnet Mask）的计算。 使用的IPv4协议对IP地址强行定义了一些保留地址，即：“ 网络地址 ”和“ 广播地址 ”。
掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。 掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。 掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。
光罩 （英文： Reticle, Mask ），在制作IC的过程中，利用 光蚀刻 技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的 原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片上。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
设计图形经过 OPC 处理后（post-OPC），在被发送到掩模生产厂之前，必须要做所谓的掩模规则检查（mask rule check，MRC）。. MRC检查“post-OPC”数据，确认其中所有图形适合 掩模版 制备工艺。. MRC中的规则是由掩模版厂提供的，OPC工程师将这些规则输入到MRC软件中 ...
