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中文名. 相移掩模. 外文名. Phase Shift Mask. 英文缩写. PSM. 相移掩模（Phase Shift Mask, PSM）是同时利用 光线 的强度和相位来成像，得到更高分辨率的一种 分辨率 增强技术 [1]。 相移掩模是一项通过改变光束相位来提高 光刻分辨率 ，其基本原理是通过改变 掩模 结构，使得透过相邻透光区域的光波产生180度的相位差，二者在像面上特定区域内会发生相消 干涉 ，减小光场中暗场的光强，增大亮区的光场，以提高 对比度 ，改善 分辨率 [2]。
- 概览
- 简介
- 种类
- 制作方法
- 工艺过程
用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的结构
光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
透明基板
1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）苏打玻璃（Soda-lime Glass）低膨胀玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明树脂
遮光膜
（1）硬质遮光膜：铬膜氧化铁硅化钼硅。 （2）乳胶。
溅镀法（Sputtering）：
（1）上平行板：装载溅镀金属的靶材；
下平行板：作为溅镀对象的玻璃基板。
（2）将氩气（Ar 2 ）通入反应舱中形成等离子体；
氩离子（Ar + ）在电场中被加速后冲撞靶材；
受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。
1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（GDS格式）
2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光（曝光波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应
3） 经过显影、定影后，曝光区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层
4） 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。
5） 在有必要的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。
其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交，后续加工工艺由工程师完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤，要求用户对所提交的版图文件仔细核对，确保图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明 [1]。
中文名. 掩模. 外文名. Mask. 别 名. 掩模版. 适用领域. 光刻工艺. 目录. 1 掩模简介. 2 制作. 3 结构. 掩模简介. 播报. 编辑. 掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。 掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。 掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。 在 投影式光刻机 中，掩模作为一个光学元件位于 会聚透镜 （condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。 掩模上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后透射在晶圆表面。 为了区别接触式 曝光 中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模（reticle）。 表1对这两种掩模的不同之处做了对比。
子网掩码 (subnet mask)又叫 网络掩码 、 地址掩码 、子网络遮罩，它用来指明一个 IP地址 的哪些位标识的是 主机 所在的子网，以及哪些位标识的是主机的位掩码。 子网掩码不能单独存在，它必须结合IP地址一起使用。 子网掩码是一个32位地址，用于屏蔽IP地址的一部分以区别网络标识和主机标识，并说明该IP地址是在 局域网 上，还是在 广域网 上。 中文名. 子网掩码. 外文名. Subnet Mask. 别 名. 网络掩码、地址掩码. 所属行业. 计算机网络. 作 用. IP划分成网络地址和主机地址. 目录. 1 发展历程. 2 简介. 3 子网掩码的功能. 声明网络地址与主机地址. 划分子网. 4 计算方式. 根据子网数. 根据主机数. 增量计算法
中文名. 硬掩模. 外文名. Hard Mask. 硬掩模 (Hard Mask)是一种通过CVD (Chemical Vapor Deposition, CVD)生成的无机 薄膜材料 。 其主要成分通常有TiN、 SiN 、SiO2等。 硬掩模主要运用于多重光刻工艺中，首先把多重光刻胶图像转移到硬掩模上，然后通过硬掩模将最终图形刻蚀转移到衬底上 [1] 。 硬掩模在工艺中运用： 双重光刻 (LELE)工艺中的双沟槽光刻技术、双线条光刻技术；三重光刻 (LELELE)技术；自对准的双重成像技术 (Self-aligned Double Patterning, SADP)等 [1] 。 图1 双沟槽光刻工艺流程示意图 (使用暗场掩模版和 正性光刻胶)
罗夏墨迹测验是由瑞士精神科医生、精神病学家罗夏(Hermann Rorschach)创立，国外有时称罗夏墨迹(Inkblot)测验，或罗夏技术，或简称罗夏，国内也有多种译名，如罗夏测验、罗夏测试和罗沙克测验等。罗夏测验因利用墨渍图版而又被称为墨渍图测验，现在已经被世界各国广泛使用。 罗夏墨迹测验是最 ...
简介. 播报. 编辑. 每个进程都有一个信号掩码（signal mask），也称为信号屏蔽字，它规定了当前要屏蔽或要阻塞递送到该进程的信号集。 对于每种可能的信号，该掩码中都有一位与之对应。 对于某种信号，若其对应位（bit）已设置，则它当前是被阻塞的。 简单地说，信号掩码是一个“ 位图 ”，其中每一位都对应着一种信号。 如果位图中的某一位为1，就表示在执行当前信号集的处理程序期间相应的信号暂时被“屏蔽”或“阻塞”，使得在执行的过程中不会嵌套地响应那个信号。 举例. 播报. 编辑. 为什么要对某一信号进行屏蔽呢？ 我们来看一下对Ctrl+C的处理。
