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1 简介. 2 种类. 透明基板. 遮光膜. 3 制作方法. 4 工艺过程. 简介. 播报. 编辑. 光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。 其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
外文名. mask rule check. 设计图形经过 OPC 处理后（post-OPC），在被发送到掩模生产厂之前，必须要做所谓的掩模规则检查（mask rule check，MRC）。 MRC检查“post-OPC”数据，确认其中所有图形适合 掩模版 制备工艺。 MRC中的规则是由掩模版厂提供的，OPC工程师将这些规则输入到MRC软件中。 MRC规则主要包括如下内容： （1）对图形的最小线宽（minWidth），线间距（minSpace），做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）的线宽和间距限定最小值。 （2）对图形拐角之间间距（corner-to-corner）的最小值做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）与主图形之间的距离做出限定。
二元掩模（Binary Intensity Mask，BIM），也称为双极型掩模，是指由透光与不透光两种部分组成的光掩模版 [1] 。. 二元掩模版是使用最多的一种掩模版，被广泛用于365nm（I线）至193nm的浸没式光刻。. 二元掩模是相对于移相掩模而言的。. 最常用的二元掩模遮光材料是 ...
2017年3月，何恺明和同事公布Mask R-CNN，提出了一个概念上简单、灵活和通用的用于目标实例分割（objectinstance segmentation ）框架，能够有效地检测图像中的目标，同时还能为每个实例生成一个高质量的分割掩码。 [1] 何恺明（右）与导师汤晓鸥教授 ...
中文名. 掩模保护膜. 外文名. Mask Pellicle. 用 途. 防止灰尘掉落在掩模有图形的一侧. 由于 玻璃基板 的厚度和保护膜距离基板的距离相近，均为6mm左右，所以这些吸附在掩模上的颗粒距离 掩模 图形面（Cr面）的距离都在6mm左右。 现代投影式光刻机的 聚焦深度 （DOF）最多也就是在1~2um，这远小于6mm。 因此，在曝光时，这些附着在玻璃和保护膜上的颗粒，只能在晶圆表面形成一个非常模糊的像，对局部的光强产生的干扰很小。 只有当这些颗粒的尺寸大到一定程度时，其在晶圆上产生的阴影才可能在光刻胶上留下图形。 图1是吸附在Cr图形上的颗粒与吸附在保护膜上的颗粒成像的对比示意图 [1] 。 掩模保护膜. 图1 在Cr图形上的颗粒与吸附在保护膜上的颗粒成像对比示意图.
埃隆·里夫·马斯克（Elon Reeve Musk），1971年6月28日出生于南非行政首都比勒陀利亚，父亲是南非人，母亲是加拿大人，他还有一个弟弟和一个妹妹，本科毕业于宾夕法尼亚大学经济学和物理学双专业，美国、南非、加拿大三重国籍的企业家、工程师、发明家、慈善家，Tesla创始人兼首席执行官，SpaceX ...
子网掩码 (subnet mask)又叫 网络掩码 、 地址掩码 、子网络遮罩，它用来指明一个 IP地址 的哪些位标识的是 主机 所在的子网，以及哪些位标识的是主机的位掩码。 子网掩码不能单独存在，它必须结合IP地址一起使用。 子网掩码是一个32位地址，用于屏蔽IP地址的一部分以区别网络标识和主机标识，并说明该IP地址是在 局域网 上，还是在 广域网 上。 中文名. 子网掩码. 外文名. Subnet Mask. 别 名. 网络掩码、地址掩码. 所属行业. 计算机网络. 作 用. IP划分成网络地址和主机地址. 目录. 1 发展历程. 2 简介. 3 子网掩码的功能. 声明网络地址与主机地址. 划分子网. 4 计算方式. 根据子网数. 根据主机数.
