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掩模规则检查是指设计图形经过光学临近修正处理后,在被发送到掩模生产厂之前,必须做的检查 [1]。 中文名. 掩模规则检查. 外文名. mask rule check. 相关视频. 查看全部. 设计图形经过 OPC 处理后(post-OPC),在被发送到掩模生产厂之前,必须要做所谓的掩模规则检查(mask rule check,MRC)。 MRC检查“post-OPC”数据,确认其中所有图形适合 掩模版 制备工艺。 MRC中的规则是由掩模版厂提供的,OPC工程师将这些规则输入到MRC软件中。 MRC规则主要包括如下内容: (1)对图形的最小线宽(minWidth),线间距(minSpace),做出规定;也可以对亚分辨率辅助图形(SRAF)的线宽和间距限定最小值。
- 概览
- 简介
- 种类
- 制作方法
- 工艺过程
用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的结构
光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
透明基板
1、透明玻璃 。石英玻璃(Quartz Glass)苏打玻璃(Soda-lime Glass)低膨胀玻璃(Low Expansion Glass) 2、透明树脂
遮光膜
(1)硬质遮光膜:铬膜氧化铁硅化钼硅。 (2)乳胶。
溅镀法(Sputtering):
(1)上平行板:装载溅镀金属的靶材;
下平行板:作为溅镀对象的玻璃基板。
(2)将氩气(Ar 2 )通入反应舱中形成等离子体;
氩离子(Ar + )在电场中被加速后冲撞靶材;
受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。
1) 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件(GDS格式)
2) 使用无掩模光刻机读取版图文件,对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光(曝光波长405nm),照射掩膜版上所需图形区域,使该区域的光刻胶(通常为正胶)发生光化学反应
3) 经过显影、定影后,曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层
4) 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。
5) 在有必要的情况下,使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层,并对掩膜版进行清洗。
其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交,后续加工工艺由工程师完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤,要求用户对所提交的版图文件仔细核对,确保图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明 [1]。
业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质: 石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的
公司名称. 恩智浦半导体有限公司. 外文名. NXP. 成立时间. 2006年 (前身为荷兰皇家飞利浦公司的事业部之一) 总部地点. 荷兰埃因霍温. 经营范围. 半导体. 公司口号. 智慧生活 安全连结. 年营业额. 132.1 亿元 [4] 创 立. 飞利浦公司. 目录. 1 简介. 2 恩智浦中国概况. 3 恩智浦业务概况. 4 品牌详细. 5 最新财报. 6 所获荣誉. 简介. 播报. 编辑.
何恺明的主要研究领域为 计算机视觉 和 深度学习 ,是深度 残差网络 (ResNets)的主要开发者。 [2] 中文名. 何恺明. 外文名. Kaiming He. 出生地. 广东省广州市. 出生日期. 1984年. 毕业院校. 香港中文大学. 职 业. 教育科研工作者. 主要成就. CVPR 2009、CVPR 2016、ICCV 2017最佳论文奖2017年获选为香港中文大学工程学院杰出校友2018年获得CVPR大会PAMI青年研究者奖2023年获得未来科学大奖数学与计算机科学奖. 目录. 1 人物经历. 2 主要成就. 科研成就. 荣誉表彰. 3 社会任职.
中文名. 香港修例风波. 风波地点. 香港. 目录. 1 风波背景. 2 暴力实录. 3 风波处置. 风波背景. 播报. 编辑. 自2019年6月以来,香港反对派和一些激进势力借和平游行集会之名,进行各种激进抗争活动。 虽然特区政府已多次表示修订《逃犯条例》工作已彻底停止,但他们继续以“反修例”为幌子,得寸进尺、变本加厉,暴力行为不断升级,社会波及面越来越广。 [3] 暴力实录. 播报. 编辑. 2019年6月9日,有示威者发起“反修例”游行,10日凌晨激进分子意图冲击特区立法会,并堵塞周边道路,袭击警察。 袭击者组织严密、分工明确,有人在前排充当“攻击手”,有人专责“布防”,有人担任通信员,传递警方位置信息。
香港佳宁案主脑. 本词条缺少概述图 ,补充相关内容使词条更完整,还能快速升级,赶紧来编辑 吧! 陈松青,1935年生,新加坡人,香港佳宁案主脑. 中文名. 陈松青. 国 籍. 中国. 目录. 1 人物简介. 简介. 近况. 破产. 人物简介. 播报. 编辑. 简介. 20世纪50年代中期,陈松青赴英国留学,获得工程学位,毕业后一直在新加坡和马来西亚做建筑工程师。 原本在 新加坡 任土木工程师,在当地破产后,在 1972年 6月抵达 香港 ,受地产商钟正文所用,担任项目经理。 3年后,陈松青自行成立一间地产公司。 在1970年代,香港经济大发展,房地产市场劲升,陈松青因而淘得第一桶金。